4 filmbildung, Wahl der filmbildung, Fenster «film deposition – Metrohm 797 VA Computrace Benutzerhandbuch
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7.4 Filmbildung
797 VA Computrace – Software
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7.4 Filmbildung
Wahl der Filmbildung
HAUPTFENSTER / Utility / Film deposition
Bildung eines Quecksilberfilms auf Festkörper
-
elektroden im 797 VA Computrace Stand starten.
Fenster «Film deposition»
Das Fenster
FILM DEPOSITION
dient zur Bildung eines Quecksilber-
oder Metallfilms auf Festkörperelektroden im 797 VA Computrace
Stand.
Plating solution [ 48 Zeichen ; ]
Name der für die Filmbildung benutzten Elektrolytlösung.
Stirrer/RDE (rpm)
[ 0...3000 rpm ; 2000 rpm ]
Umdrehungen pro Minute der Rotierenden Scheibenelektro-
de. Die RDE rotiert während allen Vorbereitungsschritten bis
zum Start des Reinigungssweeps.
Purge time (s)
[ 0...80600 s ; 300 s ]
Entlüftungszeit vor der ersten Messung der Probelösung.
Conditioning
cycles
Vor der Filmbildung kann die Festkörperelektrode durch eine
frei wählbare Anzahl von Konditionierzyklen elektrochemisch
regeneriert werden. Bei jedem Konditionierzyklus wird die
Spannung mit einer Geschwindigkeit von 1 V/s von der Start-
spannung
Start potential
zur Endspannung
End potential
und
zurück geändert.
Start potential (V)
[ -5...+5 V ; -1.2 V ]
Startspannung für den zyklischen Konditioniersweep.