INFICON XTC/3 Thin Film Deposition Controller Operating Manual - Handbuch (Seite 212)

A - 2
IP
N 07
4-
44
6-
P5
A
XTC/3 Gebrauchsanleitung
Be 1.850 0.543 Beryllium
BeF
2
1.990 *1.000 Berylliumfluorid
BeO 3.010 *1.000 Berylliumoxid
Bi 9.800 0.790 Bismut
Bi
2
O
3
8.900 *1.000 Bismutoxid
Bi
2
S
3
7.390 *1.000 Bismuttrisulfid
Bi
2
Se
3
6.820 *1.000 Bismutselenid
Bi
2
Te
3
7.700 *1.000 Bismuttellurid
BiF
3
5.320 *1.000 Bismutfluorid
C 2.250 3.260 Kohlenstoff (Graphit)
C 3.520 0.220 Kohlenstoff (Diamant)
C
8
H
8
1.100 *1.000 Parylene (Unionkarbid)
Ca 1.550 2.620 Kalzium
CaF
2
3.180 0.775 Kalziumfluorid
CaO 3.350 *1.000 Kalziumoxid
CaO-SiO
2
2.900 *1.000 Kalziumsilicat (3)
CaSO
4
2.962 0.955 Kalziumsulfat
CaTiO
3
4.100 *1.000 Kalziumtitanat
CaWO
4
6.060 *1.000 Kalziumwolframat
Cd 8.640 0.682 Kadmium
CdF
2
6.640 *1.000 Kadmiumfluorid
CdO 8.150 *1.000 Kadmiumoxid
CdS 4.830 1.020 Kadmiumsulfid
CdSe 5.810 *1.000 Kadmiumselenid,
CdTe 6.200 0.980 Kadmium Telluride
Ce 6.780 *1.000 Cer
CeF
3
6.160 *1.000 Cer(III)fluorid
CeO
2
7.130 *1.000 Cer(IV)dioxid
Co 8.900 0.343 Kobalt
CoO 6.440 0.412 Kobaltoxid
Cr 7.200 0.305 Chrom
Cr
2
O
3
5.210 *1.000 Chrom(III)oxid
Cr
3
C
2
6.680 *1.000 Chromkarbid
Tabelle A-1 Materialtabelle (fortgesetzt)
Formel Dichte Z-Ratio Materialbezeichnung