A - 3 – INFICON XTC/3 Thin Film Deposition Controller Operating Manual Benutzerhandbuch
Seite 213

A - 3
IP
N 07
4-
44
6-
P5
A
XTC/3 Gebrauchsanleitung
CrB
6.170
*1.000
Chromborid
Cs
1.870
*1.000
Zäsium
Cs
2
SO
4
4.243
1.212
Zäsiumsulfat
CsBr
4.456
1.410
Zäsiumbromid
CsCI
3.988
1.399
Zäsiumchlorid
CsI
4.516
1.542
Zäsiumjodid
Cu
8.930
0.437
Kupfer
Cu
2
O
6.000
*1.000
Kupferoxid
Cu
2
S
5.600
0.690
Kupfer(I)sulfid (Alpha)
Cu
2
S
5.800
0.670
Kupfer(I)sulfid (Beta)
CuS
4.600
0.820
Kupfer(II)sulfid
Dy
8.550
0.600
Dysprosium
DY
2
O
3
7.810
*1.000
Dysprosiumoxid
Er
9.050
0.740
Erbium
Er
2
O
3
8.640
*1.000
Erbiumoxid
Eu
5.260
*1.000
Europium
EuF
2
6.500
*1.000
Europiumfluorid
Fe
7.860
0.349
Eisen
Fe
2
O
3
5.240
*1.000
Eisenoxid
FeO
5.700
*1.000
Eisenoxid
FeS
4.840
*1.000
Eisensulfid
Ga
5.930
0.593
Gallium
Ga
2
O
3
5.880
*1.000
Galliumoxid (B)
GaAs
5.310
1.590
Galliumarsenid
GaN
6.100
*1.000
Galliumnitrid
GaP
4.100
*1.000
Galliumphosphid
GaSb
5.600
*1.000
Galliumantimonid
Gd
7.890
0.670
Gadolinium
Gd
2
O
3
7.410
*1.000
Gadoliniumoxid
Ge
5.350
0.516
Germanium
Ge
3
N
2
5.200
*1.000
Germaniumnitrid
GeO
2
6.240
*1.000
Germaniumoxid
GeTe
6.200
*1.000
Germaniumtellurid
Tabelle A-1 Materialtabelle (fortgesetzt)
Formel Dichte
Z-Ratio
Materialbezeichnung