INFICON XTC/3 Thin Film Deposition Controller Operating Manual - Handbuch (Seite 218)

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IP
N 07
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44
6-
P5
A
XTC/3 Gebrauchsanleitung
TIBr 7.560 *1.000 Thalliumbromid
TICI 7.000 *1.000 Thalliumchlorid
TII 7.090 *1.000 Thalliumjodid (B)
U 19.050 0.238 Uran
U
3
O
8
8.300 *1.000 Triuran0ctoxid
U
4
O
9
10.969 0.348 Uranoxid
UO
2
10.970 0.286 Urandioxid
V 5.960 0.530 Vanadium
V
2
O
5
3.360 *1.000 Vanadium Pentoxide
VB
2
5.100 *1.000 Vanadiumborid
VC 5.770 *1.000 Vanadiumkarbid
VN 6.130 *1.000 Vanadiumnitrid
VO
2
4.340 *1.000 Vanadiumdioxid
W 19.300 0.163 Wolfram
WB
2
10.770 *1.000 Wolframborid
WC 15.600 0.151 Wolframkarbid
WO
3
7.160 *1.000 Wolframtrioxid
WS
2
7.500 *1.000 Wolframdisulfid
WSi
2
9.400 *1.000 Wolframsilizid
Y 4.340 0.835 Yttrium
Y
2
0
3
5.010 *1.000 Yttriumoxid
Yb 6.980 1.130 Ytterbium
Yb
2
O
3
9.170 *1.000 Ytterbiumoxid
Zn 7.040 0.514 Zink
Zn
3
Sb
2
6.300 *1.000 Zinkantimonid
ZnF
2
4.950 *1.000 Zinkfluorid
ZnO 5.610 0.556 Zinkoxid
ZnS 4.090 0.775 Zinksulfid
ZnSe 5.260 0.722 Zinkselenid
ZnTe 6.340 0.770 Zinktellurid
Zr 6.490 0.600 Zirkon
ZrB
2
6.080 *1.000 Zirkonborid
ZrC 6.730 0.264 Zirkonkarbid
Tabelle A-1 Materialtabelle (fortgesetzt)
Formel Dichte Z-Ratio Materialbezeichnung