INFICON XTC/3 Thin Film Deposition Controller Operating Manual - Handbuch (Seite 214)

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IP
N 07
4-
44
6-
P5
A
XTC/3 Gebrauchsanleitung
Hf 13.090 0.360 Hafnium
HfB
2
10.500 *1.000 Hafniumborid
HfC 12.200 *1.000 Hafniumkarbid
HfN 13.800 *1.000 Hafniumnitrid
HfO
2
9.680 *1.000 Hafniumoxid
HfSi
2
7.200 *1.000 Hafniumsilizid
Hg 13.460 0.740 Quecksilber
Ho 8.800 0.580 Holminum
Ho
2
O
3
8.410 *1.000 Holminumoxid
In 7.300 0.841 Indium
In
2
O
3
7.180 *1.000 Indiumsesquioxid
In
2
Se
3
5.700 *1.000 Indiumselenid
In
2
Te
3
5.800 *1.000 Indiumtellurid
InAs 5.700 *1.000 Indiumarsenid
InP 4.800 *1.000 Indiumphosphid
InSb 5.760 0.769 Indiumantimonid
Ir 22.400 0.129 Iridium
K 0.860 10.189 Kalium
KBr 2.750 1.893 Kaliumbromid
KCI 1.980 2.050 Kaliumchlorid
KF 2.480 *1.000 Kaliumfluorid
KI 3.128 2.077 Kaliumjodid
La 6.170 0.920 Lanthan
La
2
O
3
6.510 *1.000 Lanthanoxid
LaB
6
2.610 *1.000 Lanthanborid
LaF
3
5.940 *1.000 Lanthanfluorid
Li 0.530 5.900 Lithium
LiBr 3.470 1.230 Lithiumbromid
LiF 2.638 0.778 Lithiumfluorid
LiNbO
3
4.700 0.463 Lithiumniobat
Lu 9.840 *1.000 Lutetium
Mg 1.740 1.610 Magnesium
MgAl
2
O
4
3.600 *1.000 Magnesiumaluminat
Tabelle A-1 Materialtabelle (fortgesetzt)
Formel Dichte Z-Ratio Materialbezeichnung